ผู้คนมักมองข้าม ทำให้โทรศัพท์มือถือเป็นอุปกรณ์ที่จำเป็นที่สุดสำหรับคนทั่วไป จอแสดงผลของโทรศัพท์มือถือกำลังเติบโตในระดับไฮเอนด์มากขึ้นเรื่อยๆ ด้วยการออกแบบแบบเต็มหน้าจอ การออกแบบขอบจอที่แคบ และกระบวนการที่จำเป็นในการสร้างแผง LCD คุณรู้จักมันหรือไม่? — การเคลือบ ซึ่งเกี่ยวข้องกับการสปัตเตอริงโมลิบดีนัมโลหะจากเป้าหมายโมลิบดีนัมลงบนแก้วคริสตัลเหลวโดยใช้เทคนิคแมกนีตรอนสปัตเตอริง คุณจะได้รับการแนะนำอย่างเต็มที่ในโปรแกรมแก้ไขที่ตามมา

การสปัตเตอร์มีคุณสมบัติสองประการที่ทำให้เป็นเทคนิคการเตรียมวัสดุฟิล์มบางที่ล้ำสมัย: "ความเร็วสูง" และ "อุณหภูมิต่ำ" มันโจมตีพื้นผิวของแข็งด้วยไอออนความเร็วสูงที่เกิดจากแหล่งกำเนิดไอออนและแลกเปลี่ยนพลังงานจลน์กับอะตอมที่นั่น ทำให้อะตอมบนพื้นผิวของแข็งหนีจากเป้าหมายและสะสมบนพื้นผิวของวัสดุพิมพ์เพื่อสร้างฟิล์มนาโนเมตร (หรือไมครอน) . วัสดุที่ถูกทิ้งระเบิดเป็นสารที่สะสมไว้โดยใช้เทคนิคการสปัตเตอร์ และเรียกว่าเป้าหมายการสปัตเตอร์
เป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมส่วนใหญ่ใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์สำหรับวัสดุกั้นเซมิคอนดักเตอร์ อิเล็กโทรดเซลล์แสงอาทิตย์แบบฟิล์มบาง และจอแสดงผลแบบแบน
จุดหลอมเหลวสูง การนำไฟฟ้าสูง อิมพีแดนซ์จำเพาะต่ำ ความต้านทานการกัดกร่อนที่เหนือกว่า และประสิทธิภาพด้านสิ่งแวดล้อมที่โดดเด่นของโมลิบดีนัมเป็นรากฐานสำหรับสิ่งเหล่านี้
ในอดีต จอแสดงผลแบบแบนส่วนใหญ่ใช้สายโครเมียม แต่เมื่อขนาดและความแม่นยำเพิ่มขึ้น จึงมีความจำเป็นมากขึ้นเรื่อยๆ ที่จะต้องใช้วัสดุที่มีอิมพีแดนซ์จำเพาะต่ำลง การปกป้องสิ่งแวดล้อมเป็นอีกประเด็นที่ต้องคำนึงถึง โมลิบดีนัมได้รับเลือกให้เป็นหนึ่งในวัสดุสำหรับเป้าหมายการสปัตเตอร์ของจอแบน เนื่องจากอิมพีแดนซ์จำเพาะและความเค้นฟิล์มมีค่าเพียงครึ่งหนึ่งของโครเมียม และไม่มีปัญหาเรื่องมลภาวะต่อสิ่งแวดล้อม
นอกจากนี้ ส่วนประกอบของ LCD ยังมีโมลิบดินัม ซึ่งช่วยเพิ่มความสว่าง คอนทราสต์ สี และอายุการใช้งานของจอภาพผลึกเหลวได้อย่างมาก ฟิลด์ TFT-LCD เป็นหนึ่งในแอปพลิเคชันเชิงพาณิชย์ที่สำคัญสำหรับเป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมในอุตสาหกรรมจอแสดงผลแบบแบน

จากการวิจัยตลาด การพัฒนา LCD จะถึงจุดสูงสุดในอีกไม่กี่ปีข้างหน้า โดยมีอัตราการเติบโตเฉลี่ยต่อปีประมาณ 30 เปอร์เซ็นต์
ด้วยความก้าวหน้าของ LCD ความต้องการเป้าหมายการสปัตเตอร์ของ LCD ก็เพิ่มขึ้นอย่างรวดเร็วเช่นกัน ในอัตราประมาณ 20 เปอร์เซ็นต์ทุกปี
ด้วยการเติบโตของภาคส่วนพลังงานใหม่ โมลิบดีนัมสปัตเตอร์เป้าหมายจึงถูกนำมาใช้มากขึ้นในเซลล์แสงอาทิตย์แบบฟิล์มบางนอกเหนือไปจากธุรกิจจอแบน
ชั้นอิเล็กโทรดของแบตเตอรี่ฟิล์มบาง CIGS (ทองแดง อินเดียม แกลเลียม ซีลีเนียม) มักเกิดจากการสปัตเตอร์ และเป้าหมายการสปัตเตอร์โมลิบดีนัมถูกนำมาใช้เพื่อจุดประสงค์นี้
โมตั้งอยู่ที่ฐานของโซลาร์เซลล์ในหมู่พวกมัน ในฐานะที่เป็นหน้าสัมผัสหลังของเซลล์แสงอาทิตย์ จึงมีความสำคัญต่อการก่อตัว การพัฒนา และรูปร่างของผลึกฟิล์มบางของ CIGS





