เป้าหมายสปัตเตอร์สำหรับเซมิคอนดักเตอร์
อุตสาหกรรมชิปเซมิคอนดักเตอร์เป็นหนึ่งในขอบเขตการใช้งานหลักสำหรับเป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะ และยังเป็นสาขาที่มีข้อกำหนดสูงสุดสำหรับองค์ประกอบ การจัดองค์กร และประสิทธิภาพของวัสดุเป้าหมาย โดยเฉพาะอย่างยิ่ง กระบวนการผลิตชิปเซมิคอนดักเตอร์สามารถแบ่งออกเป็นสามส่วนหลัก ได้แก่ การผลิตแผ่นเวเฟอร์ซิลิคอน การผลิตแผ่นเวเฟอร์ และบรรจุภัณฑ์ชิป เป้าหมายในการสปัตเตอร์โลหะเป็นสิ่งจำเป็นทั้งในการผลิตแผ่นเวเฟอร์และบรรจุภัณฑ์แบบชิป บทบาทของเป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะสำหรับชิปเซมิคอนดักเตอร์คือการสร้างลวดโลหะสำหรับส่งข้อมูลบนชิป กระบวนการสปัตเตอร์เฉพาะ: ขั้นแรก ใช้กระแสไอออนความเร็วสูง-เพื่อระดมยิงพื้นผิวของเป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะประเภทต่างๆ ภายใต้สภาวะสุญญากาศสูง เพื่อให้อะตอมบนพื้นผิวของเป้าหมายต่างๆ สะสมทีละชั้นบนพื้นผิวของชิปเซมิคอนดักเตอร์ จากนั้นด้วยเทคโนโลยีการประมวลผลพิเศษ ฟิล์มโลหะที่สะสมอยู่บนพื้นผิวของชิปจะถูกแกะสลักเป็นสายโลหะระดับนาโน- ซึ่งเชื่อมต่อทรานซิสเตอร์ไมโครหลายร้อยล้านตัวภายในชิป ซึ่งกันและกันจึงส่งสัญญาณ เป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะสำหรับอุตสาหกรรมชิปเซมิคอนดักเตอร์
หมวดหมู่หลัก
ประเภทหลักได้แก่: เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูง- เช่น แทนทาลัม ไนโอเบียม วาเนเดียม แฮฟเนียม เซอร์โคเนียม โครเมียม อลูมิเนียม ไทเทเนียม ทองแดง โคบอลต์ และทังสเตน รวมถึงเป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะผสม เช่น นิกเกิลแพลตินัม ทังสเตนไทเทเนียม ฯลฯ โดยปกติแล้วเป้าหมายทองแดงและเป้าหมายแทนทาลัมมักจะใช้ร่วมกัน ปัจจุบัน การผลิตเวเฟอร์กำลังเคลื่อนไปสู่กระบวนการขนาดเล็ก และการประยุกต์ใช้กระบวนการลวดทองแดงก็ค่อยๆ เพิ่มขึ้น ดังนั้นความต้องการเป้าหมายทองแดงและแทนทาลัมจึงคาดว่าจะเติบโตต่อไป เป้าหมายอะลูมิเนียมและเป้าหมายไทเทเนียมมักจะใช้ร่วมกัน ในปัจจุบัน ในด้านชิปอิเล็กทรอนิกส์ในยานยนต์ที่ต้องใช้โหนดเทคโนโลยีที่สูงกว่า 110 นาโนเมตรเพื่อให้มั่นใจถึงความเสถียรและป้องกันการรบกวน- เป้าหมายอะลูมิเนียมและไทเทเนียมยังเป็นสิ่งจำเป็นในปริมาณมาก การใช้เป้าหมายการสปัตเตอร์ต่างๆ เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูง- ได้แก่ เป้าหมายแทนทาลัม เป้าหมายไนโอเบียม เป้าหมายวานาเดียม เป้าหมายฮาฟเนียม เป้าหมายทังสเตน เป้าหมายเซอร์โคเนียม เป้าหมายไทเทเนียม ฯลฯ ผลิตภัณฑ์เหล่านี้ส่วนใหญ่ใช้ในกระบวนการสะสมไอทางกายภาพ (PVD) ของชิปวงจรรวมขนาดใหญ่พิเศษ- แผงคริสตัลเหลว และ เซลล์แสงอาทิตย์แบบฟิล์มบาง-สำหรับการเตรียมวัสดุแบบฟิล์มบางแบบอิเล็กทรอนิกส์ ผลิตภัณฑ์ของบริษัทส่วนใหญ่จะใช้ในเซมิคอนดักเตอร์ จอแบน เซลล์แสงอาทิตย์ และสาขาอื่นๆ
เกี่ยวกับเป้าหมายแทนทาลัม
ความสำคัญของเป้าหมายแทนทาลัมไม่เพียงแต่สนับสนุนความก้าวหน้าทางเทคโนโลยีของอุตสาหกรรมเชิงกลยุทธ์ เช่น เซมิคอนดักเตอร์และพลังงานใหม่ที่เป็นวัสดุเชิงหน้าที่เท่านั้น แต่ยังรวมถึงประสิทธิภาพที่กำหนดโดยตรงถึงคุณภาพและอุปสรรคทางเทคนิคของผลิตภัณฑ์ปลายทางด้วย ในเวลาเดียวกัน ความก้าวหน้าในเทคโนโลยีการเตรียมการมีความสำคัญเชิงกลยุทธ์อย่างมากต่อการควบคุมที่เป็นอิสระของห่วงโซ่อุตสาหกรรมการผลิตระดับสูง-ของประเทศ ในอนาคต ด้วยการยกระดับกระบวนการผลิตชิปและการขยายตัวของอุตสาหกรรมพลังงานใหม่ ความต้องการเป้าหมายแทนทาลัมจะยังคงเติบโต และการแข่งขันทางเทคโนโลยีของพวกเขาจะกลายเป็นการแสดงนัยสำคัญของความสามารถในการผลิตระดับไฮเอนด์-ของประเทศต่างๆ
ผู้ผลิตเป้าหมายแทนทาลัมที่ยอดเยี่ยม
เป่าจี ยูเฉิง เมทัล เทคโนโลยี บจก. เป็นผู้นำในอุตสาหกรรมเป้าหมายการสปัตเตอร์โลหะหายากในประเทศ เป็นเวลาหลายปีที่มุ่งเน้นไปที่เป้าหมายแทนทาลัม เป้าหมายไนโอเบียม เป้าหมายวาเนเดียม เป้าหมายฮาฟเนียม เป้าหมายทังสเตน เป้าหมายเซอร์โคเนียม และเป้าหมายไทเทเนียม ด้วยเทคโนโลยีการประมวลผลที่ครบถ้วนและอุปกรณ์ขั้นสูง จึงเป็นซัพพลายเออร์ที่ได้รับความไว้วางใจและยอมรับจากลูกค้าจำนวนมาก
นอกเหนือจากการเป็นตัวเลือกแรกของสถาบันวิจัยและวิทยาลัยและมหาวิทยาลัยระดับชาติหลายแห่งในประเทศจีนแล้ว ผลิตภัณฑ์ของพวกเขายังถูกส่งออกไปยังรัสเซีย เยอรมนี เกาหลีใต้ ญี่ปุ่น และประเทศอื่นๆ อีกด้วย หากคุณกำลังมองหาซัพพลายเออร์ที่ยอดเยี่ยม พวกเขาจะนำคุณค่าและประสบการณ์ที่คาดไม่ถึงมาให้คุณ
ผู้จัดการฝ่ายขาย
ติดต่อ: เดซี่ลี
อีเมล: kd@tantalumysjs.com
Whatsapp/Skype:+86 13379388917
โทรศัพท์/WeChat: +86 13379388917
แฟกซ์: 0917-3139100
รหัสไปรษณีย์: 721013
เว็บ:www.tantalumysjs.com
เพิ่ม: เขตอุตสาหกรรมหมู่บ้าน Wenquan, เขตพัฒนา Gaoxin, เมืองเป่าจี, มณฑลส่านซี, จีน
