Niobium Sputtering เป้าหมาย

โลหะกลุ่มที่ 5 ของตารางธาตุ ไนโอเบียมเป็นโลหะมันวาว สีเทา เหนียว เป็นโลหะพาราแมกเนติก (ดูตาราง) โดยมีการจัดเรียงอิเล็กตรอนที่ผิดปกติในเปลือกชั้นนอกสุด (เห็นได้ในบริเวณใกล้เคียงของแพลเลเดียม (45) โรเดียม (45) และรูทีเนียม (44) (46) จาก T=0 K ถึงจุดหลอมเหลว เชื่อว่าจะมีลูกบาศก์ที่มีศูนย์กลางอยู่ที่ลำตัว โครงสร้างผลึก การขยายตัวทางความร้อนตามแกนผลึกทั้งสามได้รับการวัดด้วยความละเอียดสูง และผลลัพธ์แสดงแอนไอโซโทรปีที่ไม่สอดคล้องกับโครงสร้างลูกบาศก์ ดังนั้น คาดว่าจะมีการศึกษาเพิ่มเติมในพื้นที่นี้

รายละเอียดเกี่ยวกับ Niobium Sputtering Targets
ความบริสุทธิ์: 99.95 เปอร์เซ็นต์ ;

วงกลม: เส้นผ่านศูนย์กลาง: 16 นิ้ว; บล็อก: ความยาว: 32 นิ้ว; ความกว้าง: 12 นิ้ว; ความหนา: 1 มม.;

ประเภทเป้าหมาย: เป้าหมายสปัตเตอร์ระนาบ, เป้าหมายสปัตเตอร์โรตารี

การใช้งานสำหรับ Niobium Sputtering Targets ได้แก่: แก้วสถาปัตยกรรม, ใยแก้วนำแสง, ฟิล์มออปติคัลและการเคลือบกันสึก
คุณสมบัติ: ความบริสุทธิ์ที่ดี ธัญพืชขัดสี (ขนาดเกรนเฉลี่ยประมาณ 40 um)

วิธีการผลิต

1. การกลั่น
การหลอมลำแสงอิเล็กตรอนหลายขั้นตอนตามมาด้วยการรีดและการหลอม การทำความสะอาด และการบรรจุขั้นสุดท้าย
ป้องกันสารพิษจากสิ่งแวดล้อม
ปกป้องระหว่างการขนส่ง
2.ตัวเลือก
บริการเชื่อมเป้าหมายสปัตเตอร์; ความบริสุทธิ์ขั้นต่ำ 99.95 เปอร์เซ็นต์; นอกจากนี้ยังมีขนาดที่เล็กลงสำหรับการใช้งาน R&D

สินค้าที่เกี่ยวข้อง

ไนโอเบียมสปัตเตอร์เป้าหมายคุณภาพสูงที่มีความหนาแน่นสูงสุดเป็นลักษณะเฉพาะของ Yusheng Metal สำหรับการใช้งานในเซมิคอนดักเตอร์ การสะสมไอสารเคมี (CVD) การสะสมไอทางกายภาพ (PVD) การแสดงผล และการใช้งานออปติคัล เป้าหมายการสปัตเตอร์ไนโอเบียม (Nb) ที่มีความบริสุทธิ์สูงสุด (99.999 เปอร์เซ็นต์ ) และขนาดเกรนเฉลี่ยที่เล็กที่สุดมีให้เลือกใช้ ด้วยขนาดเป้าหมายระนาบและการกำหนดค่าสูงสุด 820 มม. เป้าหมายการสปัตเตอร์มาตรฐานอุตสาหกรรมของเราสำหรับฟิล์มบางมีให้เลือกทั้งแบบชิ้นเดียวหรือผลิตภัณฑ์แบบยึดติด มีตำแหน่งการเจาะรู การทำเกลียว การยกนูน ร่อง และการหนุนหลังที่ออกแบบมาเพื่อทำงานกับทั้งอุปกรณ์สปัตเตอร์แบบดั้งเดิมและอุปกรณ์กระบวนการที่ทันสมัย ​​เช่น การเคลือบพื้นที่ขนาดใหญ่สำหรับพลังงานแสงอาทิตย์หรือเซลล์เชื้อเพลิง และการใช้งานชิปพลิก นอกจากนี้ ยังมีการสร้างขนาดและโลหะที่กำหนดเองพร้อมกับเป้าหมายที่มีขนาดการวิจัย วิธีการที่มีประสิทธิภาพสูงสุด เช่น X-Ray Fluorescence (XRF), Glow Discharge Mass Spectrometry (GDMS) และ Inductively Coupled Plasma ถูกนำมาใช้เพื่อประเมินเป้าหมายทั้งหมด ( ไอซีพี). "การสปัตเตอริง" คือการควบคุมการกำจัดและการแปลงวัสดุเป้าหมายให้อยู่ในเฟสของก๊าซ/พลาสมาโดยตรงผ่านการทิ้งระเบิดด้วยไอออนิก นอกจากเป้าหมายเกือบทุกขนาดที่เป็นสี่เหลี่ยม วงกลม หรือวงรี เรายังสามารถนำเสนอเป้าหมายที่อยู่นอกขอบเขตนี้

การตกผลึก สถานะของแข็ง และขั้นตอนการทำให้บริสุทธิ์สูงพิเศษอื่นๆ เช่น การระเหิด ถูกนำมาใช้ในการผลิตวัสดุ American Elements เชี่ยวชาญในการสร้างองค์ประกอบที่ไม่เหมือนใครสำหรับใช้ในธุรกิจ สถาบันการศึกษา และนวัตกรรมเทคโนโลยีพิเศษเฉพาะ Yusheng Metal เชี่ยวชาญในการสร้างองค์ประกอบที่ไม่เหมือนใครสำหรับการใช้งานในอุตสาหกรรม วิชาการ และกรรมสิทธิ์ยิ่งไปกว่านั้น Yusheng Metal ยังสามารถหล่อโลหะหายากชนิดใดก็ได้และวัสดุล้ำสมัยอื่นๆ ส่วนใหญ่ให้อยู่ในรูปแท่ง แท่ง หรือแผ่น เช่นเดียวกับการขึ้นรูปด้วยเครื่องจักรต่างๆ และใช้เทคนิคอื่นๆ เช่น อนุภาคนาโน สารละลาย และออร์แกโนเมทัลลิก นอกเหนือจากการผลิตแท่ง แผ่น แกรนูล ลิ่ม เม็ด และบิตแล้ว เรายังผลิตไนโอเบียมด้วย มีรูปทรงเพิ่มเติมตามคำขอ

ป้ายกำกับยอดนิยม: ไนโอเบียมสปัตเตอร์เป้าหมาย ซัพพลายเออร์ ผู้ผลิต โรงงาน กำหนดเอง ซื้อ ราคา ใบเสนอราคา คุณภาพ ขาย ในสต็อก