ด้วยการพัฒนาอย่างรวดเร็วของเทคโนโลยีเซมิคอนดักเตอร์ ความต้องการแทนทาลัมที่ใช้เป็นฟิล์มสปัตเตอร์จึงค่อยๆ เพิ่มขึ้น ในวงจรรวม แทนทาลัมทำหน้าที่เป็นอุปสรรคในการแพร่ ระหว่างซิลิกอนแห้งและตัวผู้นำ วิธีการผลิตของชิ้นงานสปัตเตอร์ ได้แก่ โลหะหลอมเหลว (L/M) และโลหะผง (P/M) เป้าหมายที่ใช้กันทั่วไปมักทำจากแท่งโมลิบดีนัม แต่ในบางกรณี เช่น เป้าหมายโลหะผสมเงิน-ซิลิกอน วิธี L/M ไม่สามารถใช้ได้เนื่องจากจุดหลอมเหลวแทนทาลัมและซิลิกอนที่แตกต่างกัน และความเหนียวต่ำของสารประกอบซิลิกอน เฉพาะผงโลหะเท่านั้นที่สามารถใช้เป็นเป้าหมายได้
ประสิทธิภาพของเป้าหมายส่งผลโดยตรงต่อประสิทธิภาพของฟิล์มสปัตเตอร์ สารที่ปนเปื้อนอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์จะต้องไม่มีอยู่ในการก่อตัวของฟิล์ม ในระหว่างการก่อตัวของฟิล์มสปัตเตอร์โลหะ หากมีสิ่งสกปรกในเป้าหมายแทนทาลัม สิ่งสกปรกจะถูกนำเข้าไปในห้องสปัตเตอร์แทนทาลัม ทำให้อนุภาคหยาบเกาะติดกับพื้นผิวเป้าหมาย และทำให้วงจรฟิล์มบางล้มเหลว ในเวลาเดียวกัน สิ่งเจือปนอาจทำให้อนุภาคยื่นออกมาเพิ่มขึ้นในฟิล์มบางได้ โดยเฉพาะอย่างยิ่ง สิ่งเจือปน เช่น ก๊าซออกซิเจน คาร์บอน ไฮโดรเจน ไนโตรเจน ฯลฯ ที่มีอยู่ในเป้าหมายนั้นเป็นอันตรายมากกว่าเพราะทำให้เกิดการคายประจุผิดปกติ ทำให้เกิดปัญหากับความสม่ำเสมอของฟิล์มที่เกิดขึ้น นอกจากนี้ สำหรับวิธีการทางโลหะวิทยาแบบผง ความสม่ำเสมอของฟิล์มที่สะสมคือหน้าที่ของขนาดเกรนในชิ้นงาน โดยมีเกรนที่ละเอียดกว่าในชิ้นงานส่งผลให้ฟิล์มมีความสม่ำเสมอมากขึ้น ดังนั้นจึงมีข้อกำหนดสูงสำหรับคุณภาพของผงแทนทาลัมและเป้าหมายแทนทาลัม
เพื่อให้ได้ผงเงินคุณภาพสูงและเป้าหมายแทนทาลัม จะต้องลดปริมาณสิ่งเจือปนในผงโมลิบดีนัมก่อน และต้องปรับปรุงความบริสุทธิ์ของผงแทนทาลัม อย่างที่เราทราบกันดีว่าประสิทธิภาพของวัสดุแทนทาลัมค่อนข้างเสถียร แต่ผงแทนทาลัมที่มีขนาดอนุภาคค่อนข้างละเอียดนั้นใช้งานได้ดีมาก แม้แต่ที่อุณหภูมิปกติ ก็ยังทำปฏิกิริยากับออกซิเจนและไนโตรเจนได้ง่าย ซึ่งจะช่วยเพิ่มปริมาณสิ่งสกปรก เช่น ออกซิเจนและไนโตรเจนในผงแทนทาลัมได้อย่างมาก ทำให้ดีขึ้น. แม้ว่าความบริสุทธิ์ของผลิตภัณฑ์แทนทาลัมที่เป็นโลหะบางชนิด เช่น แท่งแทนทาลัมเชิงพาณิชย์อาจสูงถึง 99.995 เปอร์เซ็นต์หรือสูงกว่านั้น ยิ่งผงแทนทาลัมที่ละเอียดกว่า กิจกรรมที่สอดคล้องกันก็จะยิ่งสูงขึ้น และความสามารถในการดูดซับออกซิเจน ไนโตรเจน ไฮโดรเจน และคาร์บอนก็เพิ่มขึ้นเช่นกัน การเพิ่มความบริสุทธิ์ของผงแทนทาลัมให้สูงกว่า 99.99 เปอร์เซ็นต์นั้นถือว่าทำได้ค่อนข้างยากและทำได้สำเร็จมาโดยตลอด แม้จะถือว่าเป็นเรื่องยากที่จะลดเนื้อหาของสิ่งเจือปนที่เป็นอันตรายอย่างใดอย่างหนึ่ง เช่น ออกซิเจน คาร์บอน ไฮโดรเจน และไนโตรเจน และลดเนื้อหาของสิ่งสกปรกที่เป็นอันตรายทั้งสี่นี้ในเวลาเดียวกันได้ยากยิ่งขึ้น อย่างไรก็ตาม การลดขนาดอนุภาคของผงแทนทาลัมมีความจำเป็นอย่างยิ่งในการปรับปรุงคุณภาพของผงแทนทาลัมและเป้าหมายแทนทาลัม สนามเป้าหมายหวังว่าจะได้ผงแทนทาลัมที่มีความบริสุทธิ์สูงโดยมีขนาดอนุภาคเฉลี่ย D<25>
Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd. สามารถผลิตผลิตภัณฑ์แทนทาลัมประเภทต่างๆ เช่นเป้าหมายแทนทาลัมที่มีความบริสุทธิ์สูง, เป้าหมายแทนทาลัมสปัตเตอร์ และเป้าหมายแทนทาลัมสำหรับเซมิคอนดักเตอร์ สอดคล้องกับความต้องการซื้อ คุณสามารถติดต่อเจ้าหน้าที่บริษัทของเราได้ตลอดเวลา
